미래화학

    TEMAHf 1

    TEMAHf

    화학명: Tetrakis(ethylmethylamido)hafnium(IV) (TEMAHf) CAS: 352535-01-4 분자식 / 분자량: C₁₂H₃₂HfN₄, 410.90 g·mol⁻¹ 용도: ALD/CVD용 Hf 전구체(HfO₂ 박막 형성)녹는점: 끓는점: ~78–79 °C (저압)밀도: 1.324 g·cm⁻³ (25 °C) 증기압: 0.067 mbar @ 75 °C, 0.36 mbar @ 95 °C

    합성목록/반도체 프리커서 2025.10.28
    이전
    1
    다음
    더보기
    프로필사진

    미래화학

    FLOW Chemistry, AI를 활용하여 화학물질 위탁생산 업을 하고 있습니다. OEM, ODM 의뢰도 가능합니다. Futureofchem@gmail.com 문의하여 주십시오.

    • 분류 전체보기
      • 회사소개
      • 사업소개
      • 사업영역
      • 합성목록
        • 반도체 프리커서
        • 고분자첨가제
        • MOF 리간드
      • 미래화학소식
      • 고객문의

    공지사항

    Calendar

    «   2026/01   »
    일 월 화 수 목 금 토
    1 2 3
    4 5 6 7 8 9 10
    11 12 13 14 15 16 17
    18 19 20 21 22 23 24
    25 26 27 28 29 30 31

    방문자수Total

    • Today :
    • Yesterday :

    Copyright © Kakao Corp. All rights reserved.

    • 화공계산기
    • 케미칼네트워크
    • 켐녹
    • 화학물질종합정보시스템
    • 화학물질관리협회

    티스토리툴바