미래화학

화학명: Hexachlorodisilane (또는 Disilicon hexachloride)CAS NO : 13465-77-5분자식: (SiCl₃)₂ 또는 Si₂Cl₆ 분자량: 약 268.89 g·mol⁻¹녹는점 : -1℃끓는점 : 144℃밀도 : 1.56g/ml증기압 : 5torr @ 25℃

화학명 : Diisopropylamino silaneCAS NO : 908831-34-5화학식 : C6H17NSi분자량 : 131.29녹는점 : 끓는점 : 116.9℃증기압 : 106torr @ 55℃밀도 : 0.76g/ml

화학명 : Hafnium tert-butoxideCas No : 2172-02-3분자량: 470.94 g·mol⁻¹외관: 액체(투명 내지 연노란색) 형태.밀도: 1.166 g·mL⁻¹ (25 °C 기준) 끓는점: 약 90 °C @ 5 mmHg녹는점 : 2℃증기압 : 1.5Torr @ 67℃

화학명: Trimethylaluminum (약칭: TMA)CAS 번호: 75-24-1분자식: Al(CH₃)₃분자량: 약 72.09 g · mol⁻¹녹는점 :15.4℃끓는점 : 125℃증기압 : 9Torr @ 20℃밀도 : 0.752g/ml @ 25℃

분자식 : C₁₂H₃₂N₄ZrCas No. : 175923-04-3분자량 : 약 323.63 g·mol⁻¹ 밀도 : 약 1.049 g·mL⁻¹ at 25 °C녹는점 : 끓는점 : 81℃ @ 0,1Torr증기압 : 1.79Torr @ 100℃형상 : Light yellow liquid순도 : 99% 이상

화학명: Tetrakis(ethylmethylamido)hafnium(IV) (TEMAHf) CAS: 352535-01-4 분자식 / 분자량: C₁₂H₃₂HfN₄, 410.90 g·mol⁻¹ 용도: ALD/CVD용 Hf 전구체(HfO₂ 박막 형성)녹는점: 끓는점: ~78–79 °C (저압)밀도: 1.324 g·cm⁻³ (25 °C) 증기압: 0.067 mbar @ 75 °C, 0.36 mbar @ 95 °C

화학명: Cyclopentadienyltris(dimethylamino)zirconium(IV)CAS 번호: 33271-88-4 분자식: C₁₁H₂₃N₃Zr분자량: 약 287.54 g/mol밀도: 약 1.26 g/cm³ (25 °C 기준) 녹는점: 끓는점: 약 94 °C, 압력 1.64 mmHg 기준증기압: 약 0.6 mmHg @ 72 °C

Cp(Me)CpZr(OEt)2(cyclopentadienyl)(methylcyclopentadienyl) Zirconium Bis(ethoxide)상세보기TBTDENTris(diethylamido)(tert-butylimido)niobium(V)상세보기CpZrTris(dimethylamido)Zirconium cyclopentadienide상세보기TEMAHfTetrakis(ethylmethylamido)Hafnium상세보기TEMAZrTetrakis(ethylmethylamido)Zirconium 상세보기 TMATrimethylaluminium 상세보기 HTTBHafnium(IV) tert-butoxide 상세보기 TBTDETa(t-butylimido)tris(diethylamido)Tantalum상세보기..